沈永健的指令瞬間激盪在車間內。
剛剛因光刻機測試成功而鬆弛下來的氣氛，立刻被一種更緊張，更嚴肅的氣氛所取代。
二代步進式光刻機的製成雖然令人振奮，但於沈永健以及在場眾人而言，一切只是開始。
光刻機的研製一直都只是為了最終的目標，積體電路，也即初代的“晶片”。
承載著數百個電晶體，電阻，電容及其互連關係的整個“系統”的第一次實體化嘗試，真正的成敗在此一舉。
“偉森，江河，你們去把恆溫恆溼櫃裡的‘581-3’掩膜版取出來！”
“戴好手套，動作要穩！”
聞言，張偉森和顧江河幾乎是跑著去的。
小心翼翼地從特製的保護盒中取出那七片才製成的玻璃掩膜版。
五天的時間，最終的版圖驗證是在當天夜裡靠著102機論證成功的。
後續的掩膜版製成難度同樣極大，專門的特種石英玻璃也是哈工大雷校長上個月幫著突破的。
一共由307個電晶體構成的中規模積體電路，所需掩膜版一共七片。
每一片都代表著積體電路的一層結構。
倘若這次流片失敗，不光掩膜版的工序需推倒重新再來，甚至連原先的版圖包括最早的電路架構與設計都需要重新考量。
到底只是掩膜版工藝未達標，還有另外有系統性的漏洞，且沒法透過計算機進行錯誤排除。
可以說，這次倘若失敗，帶來的工作量極大，起碼還得一個月的時間才能進行下一次流片試驗。
而放到後世，超大規模的積體電路晶片研製，往往一次流片失敗，便是半年至一年以上的重新等待，是筆巨大的虧損。
“邵文同志，啟動淨化系統，檢查環境引數。”
沈永健目光轉向光刻機，開啟正式的工作安排。
卓邵文熟練的操作下，車間頂部加裝的空氣淨化系統發出低鳴，開始持續過濾著微塵。
“溫度22.5度，溼度42%，符合光刻要求！”
…
“克勤同志，上矽片。”
周克勤此刻也已守在小型操作檯旁，面前早已備好了數片經過嚴格清洗，氧化，並在塗膠機上均勻旋塗了光刻膠的矽圓片。
在沈永健的示意下，用真空吸筆小心翼翼地取出一片，精準地放置到光刻機的工作臺上。
工作臺在精密電機驅動下發出幾乎微不可聞的“嗡”聲，將矽片吸附固定。
卓邵文此刻也操作起控制面板，巨大的顯微鏡目鏡被降下，螢幕上顯示出矽片邊緣的對準標記。
張偉森與顧江河二人輪流將掩膜版極其謹慎地插入光刻機的專用夾具。
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